Микролитография
Год: 1990
Автор: Моро У.
Переводчик: Р. Х. Тимеров
Жанр: Микроэлектроника
Издательство: Мир
ISBN: 5-03-001716-Х
Язык: Русский
Формат: PDF
Качество: Отсканированные страницы + слой распознанного текста
Количество страниц: 622
Описание: Книга крупного американского специалиста по сути представляет собой энциклопедию, посвященную микролитографии, материалам для полупроводниковой технологии и вспомогательным технологическим операциям.
В 1-й части рассматриваются различные виды резистов, методы их нанесения, сушки, экспонирования, травления, а также процессы рентгеновской, ионно-лучевой, электронно-лучевой и фотолитографии.
Во 2-й части рассматриваются процессы обработки экспонированных резистных структур: проявление, задубливание, травление, методы и возможности безрезистной технологии, методы контроля технологических процессов.
Для специалистов по технологии микроэлектроники, студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специальностей.
21/05/12 ТОРРЕНТ ПЕРЕЗАЛИТ. ПРОСЬБА ПЕРЕКАЧАТЬ.
Оглавление
Часть 1:
Глава 1 Введение.
Глава 2 Позитивные фоторезисты.
Глава 3 Позитивные радиационные фоторезисты.
Глава 4 Негативные фоторезисты.
Глава 5 Негативные радиационные резисты.
Глава 6 Подготовка поверхности к нанесению резистный плёнек.
Глава 7 Предэкспанинционная термообработка (сушка) резистивных плёнок.
Глава 8 Фотолитография.
Глава 9 Радиационное экспонирование.
Часть 2:
Глава 10 Проявление изображений в резисте.
Глава 11 Сушка после проявления (задубливание).
Глава 12 Процессы нанесения.
Глава 13 Травление.
Глава 14 Удаление резиста.
Глава 15 Контроль технологических параметров.
Глава 16 Безрезистная технология.
Глава 17 Состояние и перспективы развития технологии.
